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Formation of shallow p
+
n junctions by implanting BF
2
-
ions into thin cobalt films on silicon substrates
M. H. Juang
*
, Huang-Chung Cheng
*
Corresponding author for this work
電子工程學系
研究成果
:
Article
›
同行評審
13
引文 斯高帕斯(Scopus)
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指紋
指紋
深入研究「Formation of shallow p<sup>+</sup>n junctions by implanting BF<sub>2</sub><sup>-</sup> ions into thin cobalt films on silicon substrates」主題。共同形成了獨特的指紋。
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Chemical Compounds
Silicon
Cobalt
Ions
Substrates
Doping (additives)
Leakage currents
Current density
Modulation
Fabrication
Engineering & Materials Science
Cobalt
Ions
Silicon
Substrates
Doping (additives)
Leakage currents
Current density
Modulation
Fabrication
Physics & Astronomy
p-n junctions
cobalt
silicon
ions
implantation
dosage
energy
leakage
current density
modulation
fabrication
performance