半導體微影技術

Wen-An Loong

研究成果: Book同行評審

摘要

微影技術為半導體之核心,惜國內尚無中文微影技術專書,因此決定教研之餘撰寫本書,以彌補此缺憾與空白,並為推動科技中文化,略盡一已棉薄之力。

  本書重點在微影技術原理與概念之說明,而不在生產線上實務細節之描述。內容包括微影技術全部重要內涵,例如微影製程、微影光學、主要微影方法、其他微影方法、圖罩與圖視、阻劑、解像度增進技術銅互連線、化學機械研磨、電漿蝕刻與光學微影模擬。甚於多年在交通大學應用化學研究所之教學經驗,本書亦包含瞭解微影技術必要之矽製程背景知識與基礎光學。未來數年,半導體量產線幅當推進至90-65-45奈米技術節點。本書對相關領域讀者應有所助益與參閱價值
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發行者五南
頁數973
ISBN(列印)9789571137261
出版狀態Published - 十月 2004

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