簡昭欣

教授

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Characterization of plasma charging damage in ultrathin gate oxides
Lin, H-C., Wang, M. F., Chen, C. C., Hsien, S. K., Chien, C-H., Huang, T. Y., Chang, C. Y. & Chao, T-S., 1 一月 1998, 於: Annual Proceedings - Reliability Physics (Symposium). p. 312-317 6 p.
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13 引文斯高帕斯（Scopus）
High performance multi-bit nonvolatile HfO₂ nanocrystal memory using spinodal phase separation of hafnium silicate
Lin, Y. H., Chien, C-H., Lin, C. T., Chen, C. W., Chang, C. Y. & Lei, T. F., 1 十二月 2004, 於: Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM. p. 1080-1082 3 p.
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17 引文斯高帕斯（Scopus）
Impact of post-deposition-annealing on the electrical characteristics of HfO _x N _y gate dielectric on Ge substrate
Cheng, C. C., Chien, C-H., Chen, C. W., Hsu, S. L., Yang, M. Y., Huang, C. C., Yang, F. L. & Chang, C. Y., 17 六月 2005, 於: Microelectronic Engineering. 80, SUPPL., p. 30-33 4 p.
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14 引文斯高帕斯（Scopus）
Improvement in ferroelectric properties of sol-gel derived SrBi₂Ta₂O₉ thin films with seeding layers
Leu, C. C., Chien, C-H., Yang, M. J., Yang, M. C., Huang, T. Y., Lin, H. T. & Hu, C. T., 1 一月 2002, 於: Materials Research Society Symposium - Proceedings. 718, p. 189-194 6 p.
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1 引文斯高帕斯（Scopus）

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