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查看斯高帕斯 (Scopus) 概要
簡 昭欣
教授
智慧半導體奈米系統技術研究中心
電機資訊國際學位學程
https://orcid.org/0000-0002-6698-6752
1993 …
2022
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研究成果
(197)
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研究成果
每年研究成果
1993
2020
147
Article
34
Conference contribution
9
Paper
4
Conference article
3
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1
Comment/debate
1
Letter
1
Review article
每年研究成果
每年研究成果
9結果
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出版年份,標題
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Paper
搜尋結果
1994
4D pulse propagation and 4D solitons in graded-index materials
Yu, S. S.,
Lai, Y-C.
&
Chien, C-H.
,
1 十二月 1994
.
研究成果
:
Paper
›
同行評審
Solitons
Wave propagation
Wavelength
1996
Plasma charging induced gate oxide damage during metal etching and ashing
Lin, H-C.
, Perng, C. H.,
Chien, C-H.
, Chiou, S. G., Chang, T. F., Huang, T. Y. & Chang, C. Y.,
1 一月 1996
,
p. 113-116
.
4 p.
研究成果
:
Paper
›
同行評審
Helicons
Etching
Plasmas
Oxides
Metals
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
1997
Combination effects of nitrogen implantation at S/D extension and N
2
O oxide on 0.18 μm n- and p-MOSFETs
Chao, T-S.
,
Chien, C-H.
, Chiao, S. K.,
Lin, H-C.
, Liaw, M. C., Chen, L. P., Huang, T. Y., Lei, T. F. & Chang, C. Y.,
1 一月 1997
,
p. 316-320
.
5 p.
研究成果
:
Paper
›
同行評審
Oxides
Nitrogen
implantation
field effect transistors
nitrogen
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
Model for photoresist-induced charging damage in ultra-thin gate oxides
Lin, H-C.
,
Chien, C-H.
, Wang, M. F., Huang, T. Y. & Chang, C. Y.,
1 一月 1997
,
p. 247-250
.
4 p.
研究成果
:
Paper
›
同行評審
Photoresists
Oxides
Plasmas
Plasma applications
Substrates
3
引文 斯高帕斯(Scopus)
1999
Plasma-induced charging damage in ultrathin (3 nm) nitrided oxides
Chen, C. C.,
Lin, H-C.
, Chang, C. Y., Liang, M. S.,
Chien, C-H.
, Hsien, S. K. & Huang, T. Y.,
1 十二月 1999
,
p. 141-144
.
4 p.
研究成果
:
Paper
›
同行評審
Plasmas
Oxides
Leakage currents
Photoresists
Electric current measurement
3
引文 斯高帕斯(Scopus)
2000
Improved plasma charging immunity in ultra-thin gate oxide with fluorine and nitrogen implantation
Chen, C. C.,
Lin, H-C.
, Chang, C. Y., Huang, C. C.,
Chien, C-H.
, Huang, T. H. & Liang, M. S.,
1 十二月 2000
,
p. 121-124
.
4 p.
研究成果
:
Paper
›
同行評審
Fluorine
Nitrogen
Plasmas
Oxides
Substrates
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
2004
Effects of low tempersture NH3 treatment on HfO2/SiO2 stack gate dielectrics fabricated by MOCVD system
Lu, W. T.,
Chien, C-H.
, Lin, Y. C., Yang, M. J. & Huang, T. Y.,
1 十二月 2004
,
p. 434-442
.
9 p.
研究成果
:
Paper
›
同行評審
Metallorganic chemical vapor deposition
Gate dielectrics
Electric breakdown
Annealing
Oxides
Mechanism for slow programming in advanced low-voltage, high-speed ferroelectric memory
Lai, S. C., Tsai, C. W., Yen, C. T., Liu, C. L., Lee, S. Y., Lien, H. M., Lung, S. L.,
Chien, C-H.
, Wu, T. B.,
Wang, T-H.
, Liu, R. & Lu, C. Y.,
1 十二月 2004
,
p. 123-126
.
4 p.
研究成果
:
Paper
›
同行評審
Ferroelectric materials
Polarization
Data storage equipment
Electric potential
Lead zirconate titanate
2015
Metal nanowires self-assembly by dielectrophoretic and applications in optoelectronics
Lin, C. C., Lin, Y. L., Sun, W. H., Hu, S. Y., Cheng, C.,
Chien, C-H.
, Chen, Z. L., Chang, C. J., Liu, J. C., Chen, C. L. &
Ko, F-H.
,
1 一月 2015
.
研究成果
:
Paper
›
同行評審
Self assembly
Nanowires
Optoelectronic devices
Conversion efficiency
Metals