雷射分子束磊晶系統

設備/設施: Equipment

  • 地點

    工六館709室

    Taiwan

設備詳細資料

Description

重要規格: (1) 樣品尺寸最大約1 cm by 1cm. (2) Ultimate vacuum pressure less than 6.7×10-4Pa (5×10-6Torr). (3) Vacuum pumping line Main pump 800 L/s, TMP Fore pump 237 L/m RP

服務項目:高品質功能性氧化物薄膜生長
設備相關照片

詳細資料

名字 Compact Laser MBE
生產商PASCAL CO., LTD.

指紋

探索使用此設備的研究領域。這些標籤是根據相關成果而產生。共同形成了獨特的指紋。